HPPG - 50K?基礎參數(shù)?
輸出電壓范圍：0 - 50 kV 連續(xù)可調，可滿足不同應用對高壓脈沖幅值的多樣需求。在科研領域的等離子體實驗中，根據(jù)不同氣體電離特性與實驗目的，可精準調整輸出電壓，有效激發(fā)等離子體產生與穩(wěn)定維持。?脈沖寬度：10 ns - 1 μs 可選，用戶能依據(jù)具體應用場景，如材料表面改性時對脈沖作用時間的不同要求，靈活選擇合適脈寬，實現(xiàn)對材料處理深度與效果的?精準控制?重復頻率：最高可達 10 kHz，高重復頻率特性使發(fā)生器能在單位時間內輸出更多脈沖，提升生產效率。在工業(yè)生產的連續(xù)鍍膜工藝中，可快速對鍍膜材料進行離子轟擊，增強膜層附著力。?性能優(yōu)勢?該型號發(fā)生器輸出脈沖的上升時間極短，通常小于 5 ns?？焖偕仙啬茉谒查g釋放高能量，形成強大沖擊，有效作用于被處理對象。在醫(yī)療領域用于血管疏通的體外沖擊波治療設備中，可產生高能量脈沖，精準擊碎血管內血栓，且對周圍組織損傷極小。同時，其輸出脈沖具有極高穩(wěn)定性，脈沖幅值波動小于 ±1%，確保在長時間工作過程中，輸出能量穩(wěn)定，為實驗研究與生產過程提供可靠保障，減少因脈沖不穩(wěn)定導致的實驗誤差或產品質量問題。
郭姝凡
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HPPG - 100K? 基礎參數(shù)? 輸出電壓：可達 0 - 100 kV，可提供更高幅值的高壓脈沖，適用于對電壓要求更嚴苛的場景，如高壓絕緣測試、強電場下的材料特性研究等。? 脈沖寬度范圍：5 ns - 2 μs，豐富的脈寬選擇為不同應用提供了靈活性。在半導體制造中的離子注入環(huán)節(jié)，通過選擇合適脈寬，可精確控制離子注入深度與劑量，滿足芯片制造工藝對精度的嚴格要求。? 重復頻率：最高 5 kHz，能在保證一定脈沖輸出頻率的同時，提供高電壓脈沖，滿足一些對脈沖能量與輸出頻率有特定需求的應用，如在科研中模擬高電壓脈沖環(huán)境對電子器件的影響測試。? 性能亮點? 具備出色的抗干擾能力，在復雜電磁環(huán)境下仍能穩(wěn)定工作。在電力變電站等強電磁干擾環(huán)境中進行高壓設備檢測時，可確保輸出脈沖不受外界干擾，保證檢測結果的準確性。其采用的先進散熱技術，能有效降低發(fā)生器在高功率運行時的溫度，延長設備使用壽命，提高設備的可靠性與穩(wěn)定性，減少維護成本與停機時間，適合長時間、高負荷工作場景。
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